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美 제재 보란 듯…中 “ASML보다 출력 4배 EUV 기술 개발”[카테고리 설정이 아직되어 있지 않습니다.]
EUV 빛은 기존 노광 공정에 쓰였던 불화아르곤(ArF), 불화크립톤(KrF) 빛보다 더 얇은 회로를 균일하고 깔끔하게 찍어낼 수 있다는 특징이 있다. 7나노 이하 초미세 공정부터 적용됐다. 다만 EUV의 문제도 있다. 빛 속의...
